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Manual pulse heating eutectic machine

Manual pulse heating eutectic machine

High-Precision Eutectic Die Bonder

1, PH-100是COC等制程中將耐高溫基底與芯片,經(jīng)過控制溫度曲線熔化焊料從而鍵合在一-起的共晶設(shè)備。

2,設(shè)備主要由共晶臺,貼片吸嘴組件,對位CCD,脈沖加熱系統(tǒng)等組成。

3,共晶臺包含X、Y、T三軸系統(tǒng)組成,上面設(shè)置共晶加熱模塊,冷氮?dú)猸h(huán)境保護(hù)系統(tǒng),共晶臺冷卻系統(tǒng)。

4,貼片吸嘴組件設(shè)在Z軸上,Z軸用于控制貼片高度,貼片吸嘴組件設(shè)有彈簧壓力控制機(jī)構(gòu)。

5,共晶模塊采用脈沖加熱方式,溫度可分段設(shè)定,溫度升降及焊接時間可精準(zhǔn)控制。


Product Details


設(shè)備整體布局:

設(shè)備尺寸: X950*Y1080*Z1400

重量: 300KG

功率: 8KW

氣壓: 0.3~0.6MP

電壓: 220V

共晶時間: 10 sec/pc

CCD鏡頭放大倍數(shù): 0.5-7X

共晶壓力: 10~ 50gf

料盒尺寸: (tray  2"X2")

加熱面積: 10x10mm

[敏感詞]溫度: 450 C

設(shè)備特點(diǎn):

1, PH-100是COC等制程中將耐高溫基底與芯片,經(jīng)過控制溫度曲線熔化焊料從而鍵合在一-起的共晶設(shè)備。

2,設(shè)備主要由共晶臺,貼片吸嘴組件,對位CCD,脈沖加熱系統(tǒng)等組成。

3,共晶臺包含X、Y、T三軸系統(tǒng)組成,上面設(shè)置共晶加熱模塊,冷氮?dú)猸h(huán)境保護(hù)系統(tǒng),共晶臺冷卻系統(tǒng)。

4,貼片吸嘴組件設(shè)在Z軸上,Z軸用于控制貼片高度,貼片吸嘴組件設(shè)有彈簧壓力控制機(jī)構(gòu)。

5,共晶模塊采用脈沖加熱方式,溫度可分段設(shè)定,溫度升降及焊接時間可精準(zhǔn)控制。

設(shè)備結(jié)構(gòu):
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